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- 2024-01-26 发布于天津
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全球市场研究报告
半导体光刻胶全球市场总体规模
据QYResearch调研团队最新报告“全球半导体光刻胶市场报告2023-2030”显示,预计2030年全球半导
体光刻胶市场规模将达到45.9亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为9.9%。
半导体光刻胶主要用于分立器件、LED、集成电路等产品的生产,半导体光刻胶随着市场对半导体产品小型
化、功能多样化的要求,而不断通过缩短曝光波长提高极限分辨率,从而达到集成电路更高密度的集积。按
照曝光波长,半导体光刻胶可分为紫外宽谱(300-450nm)、g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、
ArF(193nm)、EUV(13.5nm)等6个主要品类。
图.半导体光刻胶,全球市场总体规模
GlobalMarketSize($Mn)
201820232030
如上图表/数据,摘自QYResearch最新报告“全球半导体光刻胶市场研究报告2023-2030.
Copyright©QYResearch|yangju
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