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本发明公开了一种镀膜玻璃及其生产设备，包括加工室，真空处理装置，装夹装置，以及设于加工室内并放置待镀靶材的溅射台；加工室设有正交的电场和磁场，加工室上设有供输入惰性气体的供气管，溅射台处于装夹装置的下方。通过真空处理装置使加工室处于镀膜所需的预定真空度，以便于基片的镀膜处理；装夹装置将基片固定好，供气管输入氩气，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117430348A
(43)申请公布日2024.01.23
(21)申请号202311753592.X
(22)申请日2023.12.20
(71)申请人中光科技（福建）有限公司
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