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研磨垫检测方法及装置、双面抛光设备.pdfVIP

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  • 2024-01-27 发布于四川
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研磨垫检测方法及装置、双面抛光设备.pdf

    本发明提供了一种研磨垫检测方法及装置、双面抛光设备，属于半导体制造技术领域。研磨垫检测装置，应用于双面抛光设备，所述双面抛光设备包括相对设置的两个定盘，以及设置在每一所述定盘上的研磨垫，所述研磨垫检测装置包括：设置在所述定盘内的位移传感器，用以检测所在定盘与相对的研磨垫表面之间的距离；处理器，用以根据所述位移传感器的检测数据确定所述研磨垫的塌缩量，根据所述研磨垫的塌缩量确定所述研磨垫的状态。本发明的技术方案能够检测pad是否吸附了过多的杂质，以避免pad釉化带来的风险。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117444852A

    (43)申请公布日2024.01.26

    (21)申请号202311598983.9

    (22)申请日2023.11.28

    (71)申请人西安奕斯伟材料科技股份有限公司

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