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- 2024-01-27 发布于四川
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本发明提出一种量子点显示基板的反光挡墙方案及其制作方法。对已涂覆负性光刻胶的基板进行曝光，显影，制备出具有图案化的显示基板；LED芯片上方的负胶被显影掉，露出蓝光LED芯片。LED芯片间由负性光刻胶隔断开；对整个基板进行金属反光层沉积作为反光挡墙金属层；随后在整个基板涂覆正性光刻胶，填充已经图案化的基板；对涂覆正性光刻胶基板进行曝光工艺、显影工艺，将像素孔填充在蓝光LED的正胶去除，像素孔侧壁正性光刻胶保留；对基板进行离子刻蚀工艺，将蓝光芯片表面的反光层去除掉；离子刻蚀工艺后，使用正性光刻胶去胶
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117457838A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202210852854.7
(22)申请日2022.07.19
(71)申请人北京航空航天大学合肥创新研究院
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