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本发明公开了一种可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，涉及磁控溅射台技术领域，包括机体，机体的上表面固定连接有溅射箱，溅射箱的内壁固定连接有屏蔽罩，溅射箱的内壁安装有旋转电机，屏蔽罩的内壁安装有基板，基板的表面安装有靶材，机体的内部固定连通有两个真空吸气管，两个真空吸气管的相对面与溅射箱的两侧固定连通，基板的上表面固定连接有金属筒，金属筒的内壁滑动连接有活塞一，金属筒的内部装有膨胀液体，本发明具备对靶材表面进行降温，以及自适应离子轰击强度的效果，解决了靶材本身材质较为脆弱，不能及时降温，会导致靶材出
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN113604781A
(43)申请公布日2021.11.05
(21)申请号202110787225.6
(22)申请日2021.07.13
(71)申请人江苏籽硕科技有限公司
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