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一种光学元件超声波清洗方法,包括步骤:根据待清洗光学元件的材质及各清洗槽的超声波频率在超声波清洗设备中选择清洗槽;根据待清洗光学元件的面型及各清洗槽的超声波频率对选择的各清洗槽设置相应的清洗工艺参数;将待清洗光学元件依次置入选择的清洗槽中,并根据设置的清洗工艺参数对待清洗光学元件进行超声波清洗。根据光学元件的面型、材质及各清洗槽固有超声波频率的不同制定不同的清洗工艺参数,减少超声波能量对光学元件表面造成的化学腐蚀和物理损伤;针对弯曲度较大的透镜,在清洗篮中增加筛网,超声波经过网眼时发生衍射,使超
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117483329A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202311588642.3
(22)申请日2023.11.24
(71)申请人上海镭望光学科技有限公司
地址
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