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用于中子散射的低背底稳态激光加热炉.pdfVIP

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  • 2024-02-07 发布于四川
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用于中子散射的低背底稳态激光加热炉.pdf

    本发明公开了中子散射技术领域的一种用于中子散射的低背底稳态激光加热炉，包括安装在炉体结构上的连接组件、加热系统和冷却辅助系统，本发明具有对中子信号探测的影响小、样品形态不限、升温速度快等优点，且可满足用户对高真空环境下样品环境温度为2000℃以上的需求，加热方式采用两个激光器对称布置，同时加热；更具体的是，本发明中的加热炉采用对称布置的两台激光器同时加热样品，且两台激光器的连续出光功率可调，具有加热速度快，温度范围大等优点，满足中子散射用户对不同温区的需求，同时，还预留了一个从不同位置观察光斑形

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220454256U

    (45)授权公告日2024.02.06

    (21)申请号202320678933.0F27D99/00(2010.01)

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