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半导体阀门过气零件的一种电解抛光工艺方法.pdfVIP

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  • 2024-02-07 发布于四川
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半导体阀门过气零件的一种电解抛光工艺方法.pdf

    本发明公开了半导体阀门过气零件的一种电解抛光工艺方法，所述方法具体包括以下步骤：碱洗、纯水清洗、硝酸钝化、电解抛光、纯水清洗、柠檬酸钝化、纯水清洗、热纯水清洗步骤，所述电解抛光步骤所使用的电解液主要成分为硫酸、磷酸、铬酐和明胶，其余成分为水，硫酸和磷酸的配比为3：1，本发明涉及过气零件表面处理技术领域；该半导体阀门过气零件的一种电解抛光工艺方法，通过对工艺流程的优化，使得经过处理后的过气零件表面光亮，达到了镜面效果，解决了现有技术中存在的有麻点，变色，表面污染物成分不达标，Cr/Fe比不达标，C

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117512763A

    (43)申请公布日2024.02.06

    (21)申请号202311366598.1

    (22)申请日2023.10.20

    (71)申请人昆世（上海）流体控制有限公司

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