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提供了光掩模检查设备和检查光掩模的方法。光掩模检查设备包括:支承检查衬底的台;具有第一数值孔径并且设置在检查衬底的一侧处的第一光学系统;具有第二数值孔径、与第一光学系统间隔开并且设置在检查衬底的一侧处的第二光学系统;包括第一物镜、第二物镜,并且设置在检查衬底的与检查衬底的一侧相对的另一侧处的成像光学系统,第一物镜在检查衬底设置在第一物镜与第一光学系统之间的情况下与第一光学系统对准,第二物镜在检查衬底设置在第二物镜与第二光学系统之间的情况下与第二光学系统对准;以及捕获通过了成像光学系统的图像的相机
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117518713A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202310978948.3G03F1/36(2012.01)
(22)申请日2023.08.0
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