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功率放大用半导体装置(11)具有形成在包括第1氮化物半导体层(201)和第2氮化物半导体层(202)的半导体层叠体(220)之上的源极电极(204)、漏极电极(205)及栅极电极(206)、以及形成在栅极电极(206)与漏极电极(205)之间的半导体层叠体(220)之上且被提供与源极电极(204)相同的电位的源场板(209);源场板(209)是台阶状,即使为了电场缓和而将上级的长度LF2延长,也能抑制在源场板(209)和2DEG面(230)中产生的寄生电容Cds的增大。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115552631A
(43)申请公布日2022.12.30
(21)申请号202180033776.1(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司
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