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衬底处理装置、衬底处理方法、半导体器件的制造方法、清洁方法、及记录介质.pdfVIP

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  • 2024-02-07 发布于四川
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衬底处理装置、衬底处理方法、半导体器件的制造方法、清洁方法、及记录介质.pdf

    本发明涉及衬底处理装置、衬底处理方法、半导体器件的制造方法、清洁方法及记录介质。本发明的课题在于提供能降低形成于衬底载置台的不希望的膜的影响的技术。在配置于处理室的衬底载置台的衬底载置面有衬底的状态下，向所述处理室供给处理气体，在所述衬底载置面无所述衬底的状态下，向所述衬底载置台的侧面供给清洁气体及清洁辅助气体。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117524826A

    (43)申请公布日2024.02.06

    (21)申请号202310653483.4

    (22)申请日2023.06.02

    (30)优先权数据

    2022-124636202

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