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掩膜组件及套准量测方法.pdfVIP

掩膜组件及套准量测方法.pdf

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    本发明提供一种掩膜组件及套准量测方法，掩膜组件包括：第一掩膜、第二掩膜及第三掩膜，第一掩膜内形成有第一标记图形，第一标记图形包括第一主标记图形及第二主标记图形；第二掩膜内形成有第二标记图形，第二标记图形对应于第一标记图形的一侧，且与第一标记图形具有间距；第二标记图形包括第三主标记图形及第四主标记图形；第三掩膜内形成有第三标记图形，第三标记图形包括第五主标记图形、第六主标记图形、第七主标记图形及第八主标记图形。本发明的掩膜组件中的标记图形可以减小标记图形在晶圆上所占的面积；同时在光刻后进行套准量测

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN111198478A

    (43)申请公布日

    2020.05.26

    (21)申请号20181

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