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- 2024-02-07 发布于四川
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本申请涉及材料领域,特别涉及一种二硫化钼纳米卷及其制备方法和应用。本申请提供一种二硫化钼纳米卷的制备方法,包括以下步骤:1)提供硅片衬底,于硅片衬底表面形成MoS2层;2)使MoS2层浸泡在第一溶液中,后吹干,得到中间产物;3)在中间产物上滴加第二溶液,使中间产物发生卷曲,并迅速吹干终止卷曲,得到二硫化钼纳米卷。本申请提供的方法为自上而下的诱导卷曲法,所需的单层MoS2通过CVD法生长,工艺较为成熟,可以进行大量制备。本发明提供的方法可以通过控制将第二溶液吹干的时机来调节MoS2纳米卷卷曲的程度
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117524845A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202310662087.8
(22)申请日2023.06.06
(71)申请人上
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