包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdfVIP

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2024-02-10 发布于四川
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包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdf

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本发明提供兼具高蚀刻耐性、高耐热性和良好的涂布性的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法、以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物、和作为溶剂的式(1)(式(1)中的R1、R2和R3各自表示氢原子、可以被氧原子、硫原子或酰胺键中断的碳原子数1～20的烷基，R1、R2和R3彼此可以相同也可以不同，可以彼此结合而形成环结构。)所示的化合物。将该组合物在可以具有高低差的半导体基板上进行涂布、烧成而形成抗蚀剂

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117539127A

(43)申请公布日2024.02.09

(21)申请号202311485456.7(51)Int.Cl.

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