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本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和抛光设备，包括主体部及保持环，所述主体部的底部配置有基座，所述保持环通过连接结构固定于所述基座；所述连接结构包括固定螺钉、限位环和连接螺钉；保持环设置于承载头的基座的底部，其通过固定螺钉连接于基座；所述限位环为环状结构，其通过连接螺钉固定于所述基座的顶部；所述限位环罩设于所述基座的上侧，其底面抵压于所述保持环的顶面；所述限位环对保持环的抵压力产生相对于所述连接螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿径向的高度差。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN114952610A
(43)申请公布日2022.08.30
(21)申请号202111325238.8
(22)申请日2021.11.10
(71)申请人华海清科股份有限公司
地址300
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