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2024-02-14 发布于四川
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一种光刻机基底表面液膜热分析方法.pdf

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本发明涉及光刻机基底液膜技术领域，具体涉及一种光刻机基底表面液膜热分析方法，包括：采集光刻机基底表面各数据点的温度值；根据温度值获取各数据点的温度特异指数，并获取各数据点的汇聚情况指数，进而获取各数据点的温度受扰指数；根据温度受扰指数获取干扰数据点，并获取各干扰数据点的温度受扰修正系数和形态修正系数；根据形态修正系数获取各干扰数据点的形态干扰系数，进而获取各干扰数据点的受扰置信度；根据受扰置信度和温度受扰指数获取各干扰数据点的液膜不均匀显著性值，并对光刻机基底表面液膜不均匀位置进行区分。本发明旨

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117554410A

(43)申请公布日2024.02.13

(21)申请号202410028561.6

(22)申请日2024.01.09

(71)申请人江苏峰博装备技术有限公司

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