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本发明属于集成电路制造领域,具体提供一种大马士革电镀铜配方及工艺的低成本评估方法,用以解决大马士革电镀铜配方研发及电镀参数验证过程中存在的门槛高、成本高等问题。本发明提出采用多孔阳极氧化铝(AAO)模板模拟大马士革电镀铜技术中介电层的盲孔结构,搭配阻挡层、种子层制作工艺实现AAO表面金属化,金属化后的AAO基底可以单独进行电镀实验,也可以嵌入到大阴极中模拟更大尺寸的晶圆电镀;电镀液配方和电镀工艺的诸多参数都可以自由调整,电镀结束后,观察镀件表面及横截面实现电镀效果评估。综上,本发明以廉价易得的多
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117568883A
(43)申请公布日2024.02.20
(21)申请号202311556131.3G01N23/2251(2018.01)
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