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本发明提供一种向对象物上照射调制光束的光学装置以及三维造型装置，简化投影光学系统的结构并增大向光调制器的投入光量。光学装置的照明光学系统构成为，通过对入射光的长轴方向上的强度分布从高斯分布进行变换，从而使光调制器的调制面中的整形光束的长轴方向的强度分布为平顶分布，并将该入射光以在长轴方向上作为平行光而在短轴方向上为会聚光的方式引导到光调制器。短轴侧遮光部配置于从光调制器射出的短轴侧为会聚光的调制光束的短轴侧的聚光位置，并遮挡调制光束的短轴侧的非零级衍射光。第二投影光学元件使调制光束在短轴方向上会
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117590613A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311030536.3B33Y30/00(2015.01)
(22)申请日2023.08.
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