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本实用新型涉及双面抛光修整装置，具有工作平台、以及机架，机架上固定设有驱动电机，驱动电机的输出端固定设有换位架，换位架上设有多个驱动气缸，各个驱动气缸的伸缩端固定设有修整电机，各个修整电机的输出端均安装有抛光盘，工作平台上设有抛光平台、元件夹具、以及修整器，元件夹具上设有安装槽，修整器上设有修整内腔，修整内腔内设有修整件，修整器包括修整套筒、以及修整底盘，修整套筒的下端面上设有插接凸环，修整件的外径大于修整内腔的内径，插接凸环的内径大于等于修整件的外径，插接凸环与修整套筒形成靠压台阶，修整底盘上
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220516282U
(45)授权公告日2024.02.23
(21)申请号202322087200.2
(22)申请日2023.08.04
(73)专利权人常州皓研智能科
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