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本发明涉及基板处理装置，其包括：处理室，其内部形成有内部空间；基座，其用于在所述内部空间放置基板；喷淋头，其从放置于所述基座的基板的上侧供给工艺气体；抽气通道，其在所述处理室的侧面以连续的环状凹陷形成，并通过抽气孔与所述内部空间连通地形成；缓冲通道，其与所述抽气通道之间隔着分隔壁且通过形成于所述分隔壁的贯通孔连通；排出通道，其与所述缓冲通道连通地形成，当被施加吸入压时，将通过所述抽气孔从所述内部空间流入到所述抽气通道的气体经过所述贯通孔和所述缓冲通道排出。该基板处理装置通过以基板为中心使吸入到抽
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117594481A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311008057.1
(22)申请日2023.08.10
(30)优先权数据
10-2022-0104043
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