等离子晶圆处理装置.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.33万字
约 12页
2024-02-24 发布于四川
举报
版权申诉

等离子晶圆处理装置.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明公开了等离子晶圆处理装置，中央气体通道的反应腔内出气口的喷气方向正对放置于基座上的晶圆上表面中心，周边气体通道的反应腔内出气口的喷气方向正对放置于基座上的晶圆上表面边缘，增加质量流量计检测设定气体通道的反应气体流量，处理器根据质量流量计检测的流量值，调节相应的管路设置的质量流量控制器，灵活调整中央气体通道同周边气体通道的进气比例，实现对基座上的晶圆上表面不同区域的等离子体浓度比例的控制，从而灵活的调节反应腔内不同区域的反应气体分布，进而控制等离子体刻蚀处理速率的变化，使得晶圆圆心处的等离子

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117594410A

(43)申请公布日2024.02.23

(21)申请号202311543433.7

(22)申请日2023.11.20

(71)申请人宸微设备科技（苏州）有限公司

地址

您可能关注的文档

文档评论（0）

知识产权出版社 + 关注: 官方认证

文档贡献者

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

咨询Ta 进入空间

用户编号：5333241143000144

认证主体北京中献电子技术开发有限公司

IP属地四川

统一社会信用代码/组织机构代码: 91110108102011667U

1亿VIP精品文档

更多 >

等离子晶圆处理装置.pdfVIP