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一种真空磁控镀膜装置.pdfVIP

一种真空磁控镀膜装置.pdf

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    本实用新型涉及真空磁控镀膜技术领域，且公开了一种真空磁控镀膜装置，包括底座和镀膜系统，底座的底部固定安装有四个支撑腿，底座的顶部固定安装有真空箱，真空箱的正面铰接有密封门，真空箱的内部转动连接有放置盘，真空箱的顶部设置有供料装置，真空箱的顶部且位于供料装置的右侧固定安装有真空泵。该真空磁控镀膜生产线及其镀膜系统，通过底座的设置实现对真空箱进行安装，通过支撑腿的设置实现对底座进行支撑，通过真空箱的设置实现对物体进行放置，通过供料装置的设置实现对原料进行盛放，通过放置盘的设置实现对物体进行转动，从而

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220537896U

    (45)授权公告日2024.02.27

    (21)申请号202320929353.4

    (22)申请日2023.04.23

    (73)专利权人赫得纳米科技（昆山）有限公司

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