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离子束溅射制备SiGe薄膜的结构和发光特性研究的任务书
任务描述:
本研究旨在通过离子束溅射技术制备薄膜,研究不同SiGe薄膜结构的特性,探索其在发光领域的应用。
任务要求:
1.确定不同SiGe薄膜结构的制备参数,包括Si和Ge的比例、溅射气体的种类和流量、溅射时间和功率等。
2.利用SEM、XRD、TEM等表征手段分析其结构特性,包括晶体结构、晶格常数等。
3.利用PL、EL等测试手段测试其发光特性,包括发光强度、波长、发光机制等。
4.分析不同SiGe薄膜结构的结构和发光特性变化规律,探讨其应用前景。
5.撰写研究论文,并进行结果展示和讲解。
任务时间:
本研究任务周期为6个月。
任务经费:
该项目经费预算为10万元,包括实验设备、实验耗材、测试费用以及科研人员的薪酬等。
任务人员:
该项目需要组建一个由1名负责人和2名研究人员组成的科研团队,其中:
1.负责人:具有3年以上相关科研经验,负责整个项目的规划、组织、实施、管理和成果报告等。
2.研究人员:具有硕士及以上学历,具有相关实验室经验,负责实验设计、实验操作、数据分析和论文撰写等。
任务评估:
该研究项目的评估标准包括研究成果的质量、创新性和实用性等,以及所发表论文的SCI收录情况等。
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