集成电路逆向设计的各道工序.pdfVIP

  • 15
  • 0
  • 约9.02千字
  • 约 8页
  • 2024-03-06 发布于天津
  • 举报

集成电路逆向设计的各道工序

照相、制版、提图、画图、仿真,;编工艺、设计工装、做芯片;测试、老化,芯片上市。

这就是集成电路逆向开发的各道工序、完整流程。

照相

在显微图像自动采集平台上逐层对芯片样品进行显微图像采集。与测量三维实体或曲面

的逆向设计不同,测量集成电路芯片纯属表面文章:放好芯片位置、对对焦、选好放大倍数,

使芯片表面在镜头中和显示器上清晰可见后,按下拍照按钮便可完成一幅显微图像的采集。

取决于电路的规模和放大倍数,一层电路可能需要在拍摄多幅图像后进行拼凑,多层电路需

要在拼凑后对准,有显微图像自动拼凑软件用于进行拼凑和对准操作。

随便估算一下:

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档