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本公开提供了一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板,属于显示技术领域,所述方法包括:提供衬底基板,衬底基板包括显示区和与显示区相邻的阵列基板行驱动GOA区;在位于显示区的衬底基板上形成多个第一薄膜晶体管,第一薄膜晶体管包括第一有源层;在位于GOA区的衬底基板上依次形成多层TFT层,TFT层包括多个第二薄膜晶体管,第二薄膜晶体管包括第二有源层;其中,在形成靠近衬底基板一侧的第一TFT层中的第二有源层时,采用准分子激光退火处理形成;在形成背离衬底基板一侧的第二TFT层中部分或全部第二薄膜晶体管的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117637766A
(43)申请公布日2024.03.01
(21)申请号202311605563.9
(22)申请日2023.11.28
(71)申请人京东方科技集团股份有限公司
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