存储器装置及其制造方法.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约2.35万字
  • 约 32页
  • 2024-03-02 发布于四川
  • 举报
本申请涉及一种存储器装置及其制造方法。该存储器装置可包括:层叠结构,其包括依次层叠的漏极选择线、字线和源极选择线;主插塞,其在层叠结构的垂直方向上延伸,并且在该主插塞的上区域的中央部分中包括子源极层孔;分离图案,其被配置为在垂直方向上分离主插塞;以及源极线,其层叠在层叠结构上并且被配置为填充子源极层孔。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117641931A

(43)申请公布日2024.03.01

(21)申请号202310403834.6

(22)申请日2023.04.14

(30)优先权数据

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档