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- 2024-03-02 发布于四川
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本申请涉及一种存储器装置及其制造方法。该存储器装置可包括:层叠结构,其包括依次层叠的漏极选择线、字线和源极选择线;主插塞,其在层叠结构的垂直方向上延伸,并且在该主插塞的上区域的中央部分中包括子源极层孔;分离图案,其被配置为在垂直方向上分离主插塞;以及源极线,其层叠在层叠结构上并且被配置为填充子源极层孔。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117641931A
(43)申请公布日2024.03.01
(21)申请号202310403834.6
(22)申请日2023.04.14
(30)优先权数据
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