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本申请关于一种芯片产品制备方法及系统，涉及微纳加工技术领域。该方法包括：在具有第一沉积层的第一芯片产品上涂敷第一光刻胶，获得覆盖第一芯片产品的第一光刻胶层；基于第一光刻胶层，制备由第一沉积层中的沉积材料构成的第一电路结构；基于第一光刻胶层中残余的第一光刻胶进行转化处理，获得第二光刻胶层；第二光刻胶层具有可溶于显影液的特性；在第二光刻胶层之上制备第三光刻胶层；对第一芯片产品上的指定位置进行光刻显影处理，去除第二光刻胶层以及第三光刻胶层在指定位置处的光刻胶；在指定位置处制备第二沉积层；对第二光刻胶层
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117672818A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202211058895.5
(22)申请日2022.08.30
(71)申请人腾讯科技（深圳）有限公司
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