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本实用新型涉及一种CVD镀膜装置，包括反应炉、镀膜管道、基体盒和镀料盒，反应炉的外部安装有保护壳，反应炉的底部安装有控制器，反应炉的一侧连通有抽真空管，镀膜管道固定连接于反应炉内部的中央，且镀膜管道的左右两端分别贯穿反应炉的左右两端，镀膜管道表面且靠近中央两侧的位置处分别设置有第一加热结构和第二加热结构，基体盒和镀料盒分别活动插接于镀膜管道内部且与第一加热结构和第二加热结构对应的位置处，镀膜管道内部的两侧均活动插接有隔热结构；本实用新型使得控制器能够分别控制第一加热器和第二加热器升温到不同程度，
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220564705U
(45)授权公告日2024.03.08
(21)申请号202322229035.X
(22)申请日2023.08.16
(73)专利权人湖北江海行纳米科技有限公司
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