原创力文档- 27
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- 2024-03-09 发布于四川
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本发明提供了一种高密度等离子体化学气相沉积装置及方法，高密度等离子体化学气相沉积装置包括：反应腔室，所述反应腔室的底部设置有承载台，所述反应腔室的侧壁设置有边缘喷嘴，所述反应腔室的顶壁设置有顶部喷嘴，所述边缘喷嘴和所述顶部喷嘴用于向所述承载台上的晶圆表面输送反应气体；距离调节单元，设置于所述反应腔室外，所述距离调节单元用于调节所述顶部喷嘴与所述晶圆之间的垂直距离。本发明的技术方案使得在改善晶圆表面膜层结构的厚度均匀性的同时，还能避免导致生产效率降低且避免导致浪费生产物料。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117660939A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202311854814.7
(22)申请日2023.12.29
(71)申请人芯联先锋集成电路制造（绍兴）有限
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