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2024-03-09 发布于四川
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一种并行照明的接近式光刻系统.pdf

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本申请提供一种并行照明的接近式光刻系统。所述系统包括：件台、多个照明模组和多个投影模组；照明模组和投影模组一一对应。照明模组、投影模组、掩模版及基片沿光路依次设置，掩模版接近式的放置于基片的上方，控制模块与多个照明模组、多个投影模组和工件台电连接。通过采用多个照明模组和投影模组，以及掩模版接近式的放置于基片的上方，利用光源束腰形状与图形直边衍射的补偿效益，本申请的光刻系统的准直度比采用大面积光源的系统的准直度很好，可以消除或减少线宽的展宽，形成均匀曝光。光源的成像景深一般可大于100微米，掩模版

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220569067U

(45)授权公告日2024.03.08

(21)申请号202322284953.2

(22)申请日2023.08.24

(73)专利权人苏州苏大维格科技集团股份有限

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