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双（多）炉体（真空室）高真空阀门结构及真空镀膜设备.pdfVIP

双（多）炉体（真空室）高真空阀门结构及真空镀膜设备.pdf

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    本发明公开了一种双(多)体(真空室)高真空阀门结构及真空镀膜设备，包括过渡腔体，过渡腔体侧面设有第一连接口，所述过渡腔体的两端均设有高真空挡板阀，所述高真空挡板阀包括真空腔体、阀板和驱动单元，所述阀板垂直于水平面设置于所述真空腔体内，所述真空腔体设有第二连接口，所述驱动单元用于驱动所述阀板靠近或者远离所述过渡腔体进而实现真空腔体与过渡腔体通断的功能。两组高真空阀可以同时开启、同时关闭或者只开启任意1个，开启方式灵活多变，两(多)个真空腔体互不干扰，可以实现两(多)个腔体共用1套高真空机组减少成本

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117685394A

    (43)申请公布日2024.03.12

    (21)申请号202311831982.4C23C14/56(2006.01)

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