聚焦离子束显微镜观察光刻胶结构的样品及方法和应用.pdfVIP

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2024-03-13 发布于四川
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聚焦离子束显微镜观察光刻胶结构的样品及方法和应用.pdf

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本申请提出一种聚焦离子束显微镜观察光刻胶结构的样品及方法和应用，其中聚焦离子束显微镜观察光刻胶结构的样品，包括：硅片和保护层，所述硅片具有第一表面，所述第一表面上设有至少一个经曝光的光刻胶掩模图形；所述保护层设在所述经曝光的光刻胶掩模图形未与所述第一表面接触的至少部分表面，所述保护层的材质为油墨。本申请的聚焦离子束显微镜观察光刻胶结构的样品，在硅片上经曝光的光刻胶掩模图形外围设置保护层，对经曝光的光刻胶掩模图形有一定的缓冲作用，从而可在无其他额外设备辅助的情形下进行双束聚焦离子束切割时对经曝光的

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117686537A

(43)申请公布日2024.03.12

(21)申请号202311704788.X

(22)申请日2023.12.12

(71)申请人深圳清力技术有限公司

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