原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明涉及半导体器件技术领域，具体公开了一种基于4H‑SiC衬底的高性能CMOS器件，包括4H‑SiC衬底、NMOS沟道、PMOS外延层、PMOS沟道、NMOS欧姆电极和PMOS欧姆电极，本发明的基于4H‑SiC衬底的高性能CMOS器件，以具有较高热导率的4H‑SiC作为衬底，同时采用具有圆角状鳍片的FinFET结构，一方面可以缓解器件的散热压力，使其可以在高温下稳定工作，另一方面抑制短沟道效应，提升载流子迁移率，栅控能力更强，具有更广阔的应用领域。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117712124A
(43)申请公布日2024.03.15
(21)申请号202410160894.4
(22)申请日2024.02.05
(71)申请人中国科学院长春光学精密机械与物
文档评论（0）