一种显影液喷洒方法.pdfVIP

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  • 2024-03-16 发布于四川
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本发明涉及一种显影液喷洒方法,用于在I‑line光刻机制程中对晶圆进行双重显影,包括以下步骤:在承载台上放置晶圆;控制显影液喷嘴移动至晶圆上方,使喷嘴与晶圆之间的距离为第一预定距离;驱动喷嘴沿第一方向水平移动,通过喷嘴向晶圆表面喷涂显影液,使显影液铺满晶圆表面;提高喷嘴的高度,使喷嘴与晶圆之间的距离为第二预定距离;驱动喷嘴沿第二方向水平移动,通过喷嘴向晶圆表面喷涂显影液,使显影液再次铺满晶圆表面。本发明解决了双重显影工艺中,第二次喷涂显影液时喷嘴会被第一次喷涂的显影液在晶圆表面产生的大量残渣污染

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117706882A

(43)申请公布日2024.03.15

(21)申请号202311751993.1

(22)申请日2023.12.19

(71)申请人物元半导体技术(青岛)有限公司

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