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本发明公开了一种用于钾离子电池N型硅/碳化硅/碳半导体纳米复合材料的制备方法及应用,本发明采用真空直流电弧法制备出了相互交联的Si/SiC纳米线,纳米线的间隙为Si的体积膨胀提供足够的空间,P的掺杂将Si转变为N型半导体,使活性物质Si产生了缺陷,提供了足够的离子嵌入位点,其次产生的丰富的电子载流子大大提高了电子的转移速率;P的掺杂还诱导了SiC纳米线的重组,使其分布在Si的表面,更好的缓冲Si的体积膨胀,从而形成一种内层为P掺杂的Si、中间为SiC、最外层为无定形碳的三层夹心结构。通过本发明可
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117727886A
(43)申请公布日2024.03.19
(21)申请号202311650908.2H01M4/583(2010.01)
(22)申请日2023.12.
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