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本发明属于极紫外光刻掩模领域，具体涉及一种极紫外光刻掩模含缺陷多层膜散射近场的快速仿真方法，该极紫外光刻掩模的构成沿入射光方向依次包括含缺陷多层膜和基底，基底上含有高斯型缺陷，含缺陷多层膜采用网格划分法和传输矩阵法建模，包括如下步骤：S1：将含缺陷多层膜沿水平方向划分为多个多层膜子区域；S2：将每个多层膜子区域分别在x、y方向上离散为一组方形单元网格；S3：用传输矩阵法计算每个多层膜子区域中所有单元网格的解析反射系数与透射系数，得到多层膜子区域的局部反射场和透射场；S4：将每个多层膜子区域的反射
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117724290A
(43)申请公布日2024.03.19
(21)申请号202410040238.0
(22)申请日2024.01.10
(71)申请人华中科技大学
地址430074
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