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- 2024-03-23 发布于四川
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本发明公开了一种防止窄间隙杂质残留的结构,包括焊接并具有窄间隙的法兰与筒体;所述法兰的端面设置有开孔,所述法兰的内壁设置有连通于开孔的通孔;其中,所述法兰的内壁对应通孔孔口处设置有导向沟槽,导向沟槽侧部设置有焊接坡口;所述筒体的底端与焊接坡口之间设置有内侧焊缝;所述筒体的外壁与法兰的端面之间设置有外侧焊缝。在焊接的法兰与筒体之间保留清理通道,完成焊接后通过气流与水流配合完成对窄间隙的清理,从而实现对窄间隙的有效清理。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117733398A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311776646.4
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人杭州大和热磁电子
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