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本发明涉及基于具有特定四能级结构的手征原子媒质的光学特性分析方法及系统。方法如下：S1、建立具有特定四能级结构的手征原子媒质的模型；S2、根据四能级结构求解密度矩阵方程；S3、在给定的四能级手征原子媒质模型中，确定一阶微扰近似下的四能级解；S4、在四能级手征原子媒质模型中，求解直接极化率和交叉耦合极化率；S5、在四能级手征原子媒质模型中，求取四能级手征原子媒质电磁极化率、磁电耦合手征参数；求取给定的四能级手征原子媒质的折射率。本发明能够准确计算分析具有特定四能级结构手征原子媒质的光学特性参数，能
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117743728A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311770752.1
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人杭州电子科技大学
地址3100
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