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可以提出一种衬底处理设备。该设备包括：衬底反应室，其配置为保持和处理衬底；远程等离子体单元，用于产生自由基气体以清洁衬底反应室；冷却单元，该冷却单元包括：罐，其配置为存储用于冷却的水；风扇，其配置为产生空气流；多个散热片，其放置在风扇前方；多个冷却管，其配置成循环来自罐的水，并且定位成穿过风扇前方，其中穿过冷却管的水冷却由风扇产生的空气流。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117766369A
(43)申请公布日2024.03.26
(21)申请号202311189520.7
(22)申请日2023.09.14
(30)优先权数据
63/409,8812022
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