一种基于氧化硅纳米线的聚电解质膜制备方法及对重金属离子高效吸附.pdfVIP

一种基于氧化硅纳米线的聚电解质膜制备方法及对重金属离子高效吸附.pdf

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本发明专利公开了一种基于氧化硅纳米线的聚电解质膜制备方法及对重金属离子高效吸附,其技术方案要点是:一种以氧化硅纳米线(SiO2NWs)为基础的聚电解质膜制备方法,并且聚电解质复合膜可有效吸附重金属离子。本发明通过抽滤装置,采用层层组装法(LBL),成功合成了具有高效率、大容量和可控形貌的三维自支撑膜。具体步骤包括将SiO2NWs制备,SiO2NWs的氨基化,及抽滤形成SiO2NWs膜结合层层自组装技术最终制备得到三维自支撑聚电解质复合膜。本发明工艺简单、操作安全、具有一定的实际应用前景。聚电解质

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117753386A

(43)申请公布日2024.03.26

(21)申请号202410122581.X

(22)申请日2024.01.30

(71)申请人温州大学新

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