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本申请公开了一种研究抛光液中磨粒浓度对接触程度影响的方法，包括如下步骤：将透光基板的位置固定，所述透光基板材质与晶圆相同；将呈某一设定分布密度的磨粒分布到抛光垫上，所述分布状况包括：单位面积下磨粒的数量，及磨粒分布的均匀度；将所述抛光垫连接于压力施加装置上，并控制所述压力施加装置以设定压力将所述抛光垫抵于所述透光基板上；从所述透光基板上背对所述抛光垫的一侧，获取二者接触面的图像，记为接触图像；根据所述接触图像获取二者的接触面积。该研究抛光液中磨粒浓度对接触程度影响的方法可以缩小研磨效果控制机制与
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117754451A
(43)申请公布日2024.03.26
(21)申请号202410132088.6
(22)申请日2024.01.30
(71)申请人河北工业大学
地址300401
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