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一种结构光深度成像仪结构参数校正方法属于结构光三维测量技术领域。该方法包括以下步骤：先构建结构光深度成像仪的解析成像模型；再构建结构光深度成像仪的深度成像误差模型；第三，在结构参数附加不同误差时获取标准平面最大深度测量值；第四，获取结构参数附加不同误差时标准平板最大深度的测量误差平均值；第五，获取最大深度下的深度成像误差模型参数；第六，获取结构参数无附加误差时标准平板最大深度的测量误差平均值；第六，获取结构参数自身误差；最后，得到结构参数校正后的解析成像模型和深度测量值。本发明有益效果在于：相比
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117781922A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202311818173.X
(22)申请日2023.12.26
(71)申请人哈尔滨理工大学
地址15008
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