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基板处理装置.pdfVIP

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  • 2024-04-03 发布于四川
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基板处理装置.pdf

    本发明提出的基板处理装置，包括处理腔室；气体供给部，配置在处理腔室的上部，用于向处理腔室内供应处理气体；多个基板保持部，配置在处理腔室内并位于气体供给部的下方，用以保持基板；排气部，配置在处理腔室的下部，用于从处理腔室中排气，排气部包括多个排气槽、多条排气流道和一个共享的总排气口，每个排气槽配置一个基板保持部；每个排气槽配置有两条排气流道，用以将排气槽与总排气口连通；其中，总排气口位于多个基板保持部的几何中心，多条排气流道的排气量相同。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117810055A

    (43)申请公布日2024.04.02

    (21)申请号202211164031.1H01L21/67(2006.01)

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