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本发明提供了一种极紫外光刻掩模优化方法及系统，其中方法包括：获取待优化的连续掩模；基于目标函数对连续掩模的第一晶圆空间像的偏导，确定目标函数对连续掩模的梯度，基于此对连续掩模进行迭代优化，直至优化后的连续掩模满足第一迭代终止条件；所述目标函数对第一晶圆空间像的偏导仅基于目标函数对连续掩模的第一晶圆图案的偏导确定；对优化后的连续掩模进行滤波和二值化处理，得到二值掩模；基于目标函数对二值掩模的第二晶圆空间像的偏导，确定目标函数对二值掩模的梯度，基于此对二值掩模进行迭代优化，直至优化后的二值掩模满足第
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117807955A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202311872007.8
(22)申请日2023.12.30
(71)申请人华中科技大学
地址430074
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