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本公开属于紫外探测技术领域，提供了一种日盲紫外探测器及其制备方法。该探测器从下至上包括第一电极、硅衬底、B单极势垒缓冲层(包括氧化镁、氧化铪中的至少一种)、氧化镓薄膜层、第二电极。制备方法：在硅衬底上依次溅射生长B单极势垒缓冲层、氧化镓薄膜层；经光刻工艺分别沉积第一电极和第二电极。本公开B单极势垒缓冲层的引入，可以调节氧化镓薄膜层与硅衬底之间的界面失配，有效抑制界面缺陷形成，降低器件的暗电流；还可以阻挡可见光照下来自硅衬底侧的光生电子的移动，减少探测器对可见光的响应并提升其紫外可见光抑制比；同时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117810285A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202311785581.X
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人中国科学院宁波材料技术与工程研
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