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本发明公开了一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，属于抛光技术技术领域，包括支撑台，所述支撑台的上表面设置有凹槽，所述凹槽中间凸起，两侧凹陷并设置有漏水孔，所述支撑台的内壁上固定安装有隔板，所述隔板的下表面设置有过滤组件，所述隔板的上表面设置有疏通组件；本发明中，通过设置有过滤组件，解决了现有技术中抛光废水流向不合理的问题，对抛光废水进行了收集、处理、再利用，相对减少了单位生产过程中流入电解槽的水量，节约用水成本，同时维持了工艺参数稳定性，提高了产品品质，同时在过滤的过程中可以定时对过滤器进行
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117817566A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202410096754.5B24B55/12(2006.01)
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