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本发明公开了一种纳米材料及其制备方法和其在抗菌领域的应用，采用一种简单方便快捷的溶剂热方法，制备了形貌相对均一，内置空心结构，表面薄膜纹理样且表层聚乙烯吡咯烷酮包覆的氧空位缺陷铋基纳米材料（以下简称：BiO1‑xI@BiOI），制备的纳米材料表现出优异的光应用特性，在近红外光辐照下能产生大量热并光催化产生活性氧自由基，展现出良好的抗菌应用潜力。同时，相比于单一可见光促发的BiOI半导体，BiO1‑xI@BiOI的光吸收能力从可见光扩展到近红外，实现了广谱的光能利用，进一步丰富了自然光灭菌的应用场
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117819599A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202311565648.9
(22)申请日2023.11.22
(71)申请人安徽省核工业勘查
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