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基板处理装置及基板处理方法.pdfVIP

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  • 2024-04-06 发布于四川
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基板处理装置及基板处理方法.pdf

    本发明提供一种处理基板的装置。处理基板的装置可以包括：壳体，具有处理空间；气体供应单元，用于向所述处理空间供应气体；支撑单元，具有卡盘以及下部电极，所述卡盘在所述处理空间支撑基板，所述下部电极被配置为在从上部观察时包围所述卡盘；温度调节板，设置在所述壳体；介电板单元，与所述温度调节板结合，所述介电板单元具有介电板，所述介电板在所述处理空间以与被所述支撑单元支撑的基板面对的方式配置；以及上部电极单元，与所述温度调节板结合，所述上部电极单元具有上部电极，所述上部电极以与所述下部电极面对的方式配置，所

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117836894A

    (43)申请公布日2024.04.05

    (21)申请号202180101719.2(51)Int.Cl.

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