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本发明涉及一种超快速二值掩膜调制及同步控制装置，用以解决现有数字微镜器件(DigitalMicromirrorDevices，DMD)最大刷新率对二值掩膜调制速度限制的问题。它主要包含三个部分，分别是掩膜调制部分，扫描部分和同步控制部分，其中掩膜调制部分的器件为DMD，DMD通过加载预置的二值循环S矩阵的重组矩阵掩膜图，实现了掩膜的调制；扫描部分的器件包含连续激光器、平凸透镜、多面转镜、平面反射镜，光阑、可调方孔，实现了对DMD二值循环S矩阵的重组矩阵掩膜图的正扫描和反扫描；同步控制部分的器
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117826401A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202410079657.5
(22)申请日2024.01.19
(71)申请人中国人民解放军战略支援部队航天
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