1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种光学元件用纳米压印胶层的制作方法.pdfVIP

  • 7
  • 0
  • 约6.73千字
  • 约 7页
  • 2024-04-06 发布于四川
  • 举报

一种光学元件用纳米压印胶层的制作方法.pdf

    本发明公开了一种光学元件用纳米压印胶层的制作方法，包括S1:制备压印胶；S11：选择材料；S12：混合原料；S2：制取压印胶层；S21：准备基底；S22：涂设围栏；S23：涂设压印胶层；S24：间隙性覆盖重复涂设；S25：压印胶层；S3：刻蚀胶层得到压印胶层；该发明在基底上以回形纹或者云雷纹的书写方式均匀涂设第一胶层的方式，使得胶体扩散均匀，同时形成胶层时，胶层的厚度是胶层的各个位置的最大厚度，而其余厚度较薄的区域通过后续的覆盖性重复涂设来改善，即是第二胶层来改善，使得胶层的形成更加合理。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117826535A

    (43)申请公布日2024.04.05

    (21)申请号202211188560.5

    (22)申请日2022.09.27

    (71)申请人上海羽觉科技有限公司

    地址20

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >